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磁控共濺射法在聚碳酸酯柔性基底鍍TiN研究

鄧愛民; 梁佳靜; 張國(guó)家 沈陽(yáng)理工大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院; 遼寧沈陽(yáng)110159

摘要:在較低的溫度下,采用磁控濺射工藝在聚碳酸酯(PC)表面制備了TiN薄膜。應(yīng)用激光共聚焦顯微鏡(CLSM)和X射線衍射儀(XRD)等研究了薄膜制備工藝對(duì)薄膜的表面微觀形貌和晶質(zhì)成分影響。結(jié)果表明:隨著基底溫度的升高,濺射的薄膜厚度和表面粗糙度增大。濺射的薄膜中,晶粒呈圓錐形,隨著N2含量的增加,濺射的薄膜粗糙度逐漸下降,晶粒較小,分布較均勻。XRD衍射結(jié)果表明,濺射的薄膜晶質(zhì)成分為TiN。

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