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脈沖電場下ZnO壓敏陶瓷動態擊穿過程研究

祝志祥; 張強; 朱思宇; 盧成嘉; 劉藝; 楊佳; 吳超峰; 曹林洪; 王軻; 高志鵬; 朱承治 全球能源互聯網研究院有限公司電工新材料研究所; 先進輸電技術國家重點實驗室; 北京102211; 西南科技大學材料科學與工程學院; 綿陽621000; 中國工程物理研究院流體物理研究所; 沖擊波物理與爆轟物理重點實驗室; 綿陽621900; 清華大學材料科學與工程學院; 北京100084; 國網浙江省電力有限公司; 杭州310007

摘要:陶瓷電擊穿問題涉及熱、光、電多場耦合效應,一直是非平衡物理學研究的重點和熱點。本工作在不同燒結溫度下制備了晶粒尺寸大小不同的氧化鋅陶瓷,采用脈沖高壓發生裝置對陶瓷進行擊穿實驗,通過對陶瓷擊穿過程的分析和對比,研究了ZnO陶瓷體擊穿的時間步驟。結果顯示,不同晶粒大小的陶瓷擊穿過程均在7μs 之內,典型的壓降曲線分為三個階段。第一個階段對應于材料中的氣孔擊穿和擊穿通道初步形成;第二階段對應于晶界擊穿;第三個階段是導電通道的完全形成。研究數據顯示,晶粒擊穿過程的持續時間最長,晶界次之,氣孔的擊穿時間最短。不同燒結溫度下,樣品晶界和晶粒的擊穿時間以及氣孔的擊穿速度均存在差異。

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