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SiO2/TiO2復合材料的制備及其光催化性能

曹培; 周國偉 齊魯工業大學(山東省科學院)實驗室與設備管理處; 濟南250353; 齊魯工業大學(山東省科學院)化學與制藥工程學院; 濟南250353

摘要:首先以P123(EO20PO70EO20)和PEG(聚乙二醇)為復合模板,制備了短棒狀介孔SiO2,然后采用電子轉移催化劑再生-原子轉移自由基聚合(ARGETATRP)方法對其進行改性。以改性后的SiO2為模板,以鈦酸四丁酯(TBT)為鈦源,制備了帶有TiO2殼的短棒狀介孔SiO2/TiO2光催化劑復合材料。采用熱重分析(TGA)、透射電子顯微鏡(TEM)、X射線衍射分析(XRD)、比表面和空隙分析儀對其進行了表征,通過甲基橙光降解反應研究了其光催化性能。結果表明:親水性聚合物成功改性介孔SiO2;銳鈦礦相的TiO2納米粒子均勻分散在SiO2表面;制得的SiO2/TiO2復合材料具有雙峰孔結構;在可見光照射下,4.5h后對甲基橙的降解率最高可達到99.5%,具有較高的光催化效率。

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