氯化膽堿-乙二醇低共熔離子鍍錫謀合金的研究
摘要：為了研究錫採離子在低共熔離子液體體系中的氧化還原行為及鍍層的相組成,以氯化膽堿-乙二醇(ChCl-EG)低共熔離子液體體系為基礎液進行錫鐮合金電沉積行為的研究。使用循環伏安測試法對錫辣離子在該體系中的陰極還原行為進行研究,采用X射線衍射儀(XRD)對Sn-Ni沉積層的相組成進行分析;采用極化曲線對沉積層耐蝕性等進行了研究。結果表明:錫辣2種離子共存于該離子液體時只顯示出1個陰極沉積峰,峰值電位-0.65V;沉積1h所得錫標合金沉積層為Ni3Sn2相,腐蝕電流密度為1.619×10^-6A/cm^2.
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