《JOURNAL OF APPLIED CRYSTALLOGRAPHY》 期刊名縮寫:J APPL CRYSTALLOGR 22年影響因子:4.868 issn:0021-8898 eIssn:1600-5767 類別: 化學工程技術 學科與分區: 晶體照相術(CRYSTALLOGRAPHY) - SCIE(Q1)化學,多學科(CHEMISTRY, MULTIDISCIPLINARY) - SCIE(Q2) 出版國家或地區:DENMARK 出版周期:Bimonthly 出版年份:1968 年文章數:250 是否OA開放訪問:No Gold OA文章占比:32.49% 官方網站:journals.iucr.org/j/ 投稿地址:submission.iucr.org/submit/j 編輯部地址:WILEY-BLACKWELL PUBLISHING, INC, COMMERCE PLACE, 350 MAIN ST, MALDEN, USA, MA, 02148 錄用難度:較難
統計分析 影響因子:指該期刊近兩年文獻的平均被引用率,即該期刊前兩年論文在評價當年每篇論文被引用的平均次數 Created with Highcharts 10.0.0年份JOURNAL OF APPLIED CRYSTALLOGRAPHY近年影响因子JOURNAL OF APPLIED CRYSTALLOGRAPHY近年影响因子20142015201620172018201920202021202222.533.544.55