《PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING》 期刊名縮寫:PLASMA CHEM PLASMA P 22年影響因子:3.337 issn:0272-4324 eIssn:1572-8986 類別: 化學(xué)工程技術(shù) 學(xué)科與分區(qū): 物理、流體和等離子體(PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS) - SCIE(Q2)物理,應(yīng)用(PHYSICS, APPLIED) - SCIE(Q2)工程、化學(xué)(ENGINEERING, CHEMICAL) - SCIE(Q2) 出版國家或地區(qū):UNITED STATES 出版周期:Quarterly 出版年份:1981 年文章數(shù):96 是否OA開放訪問:No Gold OA文章占比:7.53% 官方網(wǎng)站:www.springer.com/physics/classical+continuum+physics/journal/11090 投稿地址:mc.manuscriptcentral.com/pcpp 編輯部地址:SPRINGER, 233 SPRING ST, NEW YORK, USA, NY, 10013 錄用難度:較易