《IEEE TRANSACTIONS ON INDUSTRY APPLICATIONS》 期刊名縮寫:IEEE T IND APPL 22年影響因子:4.079 issn:0093-9994 eIssn:1939-9367 類別: 工程技術物理 學科與分區(qū): 工程,多學科(ENGINEERING, MULTIDISCIPLINARY) - SCIE(Q1)工程、電氣和電子(ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC) - SCIE(Q2) 出版國家或地區(qū):UNITED STATES 出版周期:Bimonthly 出版年份:0 年文章數(shù):617 是否OA開放訪問:No Gold OA文章占比:2.13% 官方網站:ieeexplore.ieee.org/xpl/RecentIssue.jsp?punumber=28 投稿地址:mc.manuscriptcentral.com/ieee-ias 編輯部地址:IEEE-INST ELECTRICAL ELECTRONICS ENGINEERS INC, 445 HOES LANE, PISCATAWAY, USA, NJ, 08855-4141 錄用難度:容易