pH值對還原氧化石墨結構及電容性能的影響
摘要：以天然鱗片石墨為原料，利用改進的Hummers法制備氧化石墨（GO），再將GO經超聲分散，在不同pH值條件下采用抗壞血酸進行還原，制備得到還原氧化石墨（rGO）。采用SEM、XRD、恒流充放電測試分析pH值對樣品的微觀結構和電容性能的影響。結果表明：所得樣品為片層結構，層間距為0.348~0.366nm。隨著GO溶液pH值的增加，材料的首次放電容量和循環性能都呈現先增大后減小的趨勢。在pH值為9的情況下，rGO的比電容量為141.6F/g，經過500次循環，樣品容量保持率仍能達到88%。
注: 保護知識產權,如需閱讀全文請聯系非金屬礦雜志社
相關推薦
更多
