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Ce基低溫NH3-SCR催化劑的研究進展

張志平; 楊飄萍 哈爾濱工程大學; 材料科學與化學工程學院; 哈爾濱150001

摘要:NH3選擇催化還原(NH3-SCR)是一種優異的NOx脫除技術,當前該技術中使用最廣泛的商業催化劑為V2O5-WO3(WO3)/TiO2。由于這種催化劑中含有毒的V﹑且具有強的SO2氧化能力以及高的操作溫度窗口(350~400℃)等原因,并不適用于低溫條件下使用。因此,發展一種在低溫下具有較高活性以及對環境友好的催化劑受到了研究者們的廣泛關注。近些年,人們發現Ce基氧化物催化劑具有獨特的氧儲存和釋放以及氧化還原性能,在NH3-SCR反應中表現出優異的低溫催化活性,被認為是SCR反應催化劑的候選者。在此本文詳細地闡述了Ce基氧化物催化劑用于低溫NH3-SCR反應過程中的研究進展(活性以及抗硫性能)和存在的缺點,為未來高效Ce基氧化物催化劑的研發提供指導。

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