腦膠質瘤通過MRI@NIRF雙模態靶向納米造影劑的成像研究
摘要：目的：為提高腦膠質瘤成像效果,構建一種具有磁共振（MRI）與近紅外熒光（NIRF）成像雙模態納米造影劑。方法：通過π-π自組裝法制備負載有近紅外探針IR-780和T1核磁增強劑Gd-DTPA的聚多巴胺納米載體,并對其性能進行表征,評估其在體外培養鼠神經元細胞系NSC34和BABL/c小鼠體內的毒性之后,利用裸鼠腦膠質瘤原位模型檢測其成像效果。結果：所制備的雙模態納米造影劑呈球形,粒徑53. 5±4. 1 nm,zeta電位為-5. 0±2. 7 m V,可穩定存放3個月以上,IR-780的包裹率為91. 2%±4. 1%,載藥量35. 1%±3. 2%; Gd-DTPA的包裹率為88. 2%±5. 2%,載藥量21. 3%±2. 9%,72 h內負載物釋放率小于40%,且具有明顯的p H響應性。雙模態納米造影劑在體內可有效增強IR-780和Gd-DTPA的成像效果,其中MRI弛豫率高于游離Gd-DTPA約15倍,且未見明顯的毒性。結論：MRI@NIRF雙模態納米造影劑能有效的應用于腦膠質瘤的雙模態成像和診斷中,具有廣闊的開發前景。
注: 保護知識產權,如需閱讀全文請聯系神經解剖學雜志社
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