《JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS》 期刊名縮寫:JPN J APPL PHYS 22年影響因子:1.491 issn:0021-4922 eIssn:1347-4065 類別: 生物工程技術(shù)物理 學(xué)科與分區(qū): 物理,應(yīng)用(PHYSICS, APPLIED) - SCIE(Q4) 出版國(guó)家或地區(qū):JAPAN 出版周期:Monthly 出版年份:0 年文章數(shù):1147 是否OA開放訪問:No Gold OA文章占比:5.30% 官方網(wǎng)站:jjap.jsap.jp/ 投稿地址:jjap.jsap.jp/authors/submission.html 編輯部地址:JAPAN SOC APPLIED PHYSICS, KUDAN-KITA BUILDING 5TH FLOOR, 1-12-3 KUDAN-KITA, CHIYODA-KU, TOKYO, JAPAN, 102-0073 錄用難度:66%
統(tǒng)計(jì)分析 影響因子:指該期刊近兩年文獻(xiàn)的平均被引用率,即該期刊前兩年論文在評(píng)價(jià)當(dāng)年每篇論文被引用的平均次數(shù) Created with Highcharts 10.0.0年份JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS近年影响因子JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS近年影响因子20142015201620172018201920202021202211.11.21.31.41.51.6