電子束直寫中X射線光刻掩模的熱形變研究
摘要：對X射線掩模電子束制備圖形過程建立三維有限元模型,提出用熱流密度等效法簡化瞬態熱應力計算,得到了X射線掩模在電子束直寫過程中的瞬態熱形變.結果表明,掩模面內形變在直寫過程中出現振蕩變化,最大值為8.24 nm,方向背離電子束光照中心,掩模面外形變最大值為9.75μm,方向沿圖形窗口法線方向,并出現在電子束束斑中心.
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