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加急見刊

電子束直寫中X射線光刻掩模的熱形變研究

尚鴻雁; 王永坤 上海海事大學(xué); 物流工程學(xué)院; 上海; 200135; 北京航空航天大學(xué); 航空科學(xué)與工程學(xué)院; 北京; 100083

摘要：對X射線掩模電子束制備圖形過程建立三維有限元模型,提出用熱流密度等效法簡化瞬態(tài)熱應(yīng)力計(jì)算,得到了X射線掩模在電子束直寫過程中的瞬態(tài)熱形變.結(jié)果表明,掩模面內(nèi)形變在直寫過程中出現(xiàn)振蕩變化,最大值為8.24 nm,方向背離電子束光照中心,掩模面外形變最大值為9.75μm,方向沿圖形窗口法線方向,并出現(xiàn)在電子束束斑中心.

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