AgBr/BiVO4催化劑的制備及可見光下降解酸性橙7的研究
摘要:BiVO4作為一種重要的半導體材料,因其具有無毒、價廉和穩定性好等優點,得到廣泛的應用,但存在著光電子和空穴容易復合,吸附性能不強、光催化率不高以及回收處理比較難等問題。本文通過水熱法-化學沉積方法制備AgBr/BiVO4復合光催化劑,通過XRD、PL、UV-DRS等方法分析表征物理化學性質,研究在可見光下對染料酸性橙7的降解,結果表明AgBr/BiVO4可見光照射90min后可以降解97.86%的酸性橙7。
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