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加急見刊

超精密掩模臺位移測量系統熱漂移研究

云攀攀; 張文濤; 王獻英 桂林電子科技大學電子工程與自動化學院; 廣西桂林541004; 上海微電子裝備(集團)股份有限公司; 上海201203

摘要:針對28nm浸沒式掃描光刻機掩模臺的光柵干涉儀位移測量系統,開展了系統熱漂移研究,并進行了熱漂移測試實驗與結果分析。該位移測量系統采用外差對稱式四細分的光路設計以及柵距為1μm的二維光柵,配合2048倍電子細分的相位計數卡,其系統分辨力達到了0.12nm。熱漂移測試結果顯示:該系統的熱漂移X向為17.86nm/K,Y向為41.43nm/K。在光刻機掩模臺的實際測量環境中,測量環境的溫度波動穩定在5mK以內,此時系統的熱漂移X向可以控制在0.09nm以內,Y向可以控制在0.21nm以內。實驗數據表明系統的熱漂移誤差小于1nm,滿足掩模臺亞納米位移測量精度需求。

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